home_¹ÝµµÃ¼°øÁ¤_Àü°øÁ¤´Ü°è_Àü°øÁ¤ ´Ü°èA

Àü°øÁ¤ ´Ü°èA

ÃÖ°íÀÇ Ç°Áú·Î ¼ö¿äÀÚ ¿©·¯ºÐ²² º¸´äÇÏ°Ú½À´Ï´Ù.

ȸ·Î¼³°è
CAD(Computer Aided Design)½Ã½ºÅÛÀ» »ç¿ëÇÏ¿© ÀüÀÚȸ·Î¿Í ½ÇÁ¦ ¿þÀÌÆÛ À§¿¡ ±×·ÁÁú ȸ·ÎÆÐÅÏÀ» ¼³°èÇÑ´Ù.
¸¶½ºÅ©(Mask)Á¦ÀÛ
¼³°èµÈ ȸ·ÎÆÐÅÏÀ» À¯¸®ÆÇ À§¿¡ ±×¸®´Â °úÁ¤ÀÌ´Ù. ¹ÝµµÃ¼ ¹× LCD Á¦Á¶ ½Ã ¸Å¿ì Áß¿äÇÑ ¿øÀç·á·Î »ç¿ëµÇ´Â Æ÷Å丶½ºÅ©(Photomask)´Â À¯¸®±âÆÇ À§¿¡ ¹ÝµµÃ¼ÀÇ ¹Ì¼¼È¸·Î¸¦ Çü»óÈ­ÇÑ °ÍÀÌ´Ù. Áï, Åõ¸íÇÑ ¼®¿µ±âÆÇ »óÃþ¿¡ µµÆ÷µÈ Å©·Ò ¹Ú¸·À» ÀÌ¿ëÇÏ¿© ¹ÝµµÃ¼ ÁýÀûȸ·Î¿Í LCD ÆÐÅÏÀ» ½ÇÁ¦ Å©±âÀÇ 1~5¹è·Î ½Ä°¢ÇØ ³õÀº Á¦Ç°À» ÀÏÄ´´Ù. ¼³°èÀÚ°¡ ¼³°èÇÑ È¸·Î¸¦ ÷´Ü ³ë±¤½Ã½ºÅÛ(MEBES : Manufacturing Electronic Beam Exposure System)À» ÀÌ¿ëÇØ ¿þÀÌÆÛ¿¡ ¹¦»ç½ÃÅ°´Â »çÁø ¿øÆÇÀ̱⠶§¹®¿¡ °¨±¤¹°ÁúÀÌ ÀÔÇôÁø ±âÆÇ¿¡ ÆÐÅÏÀ» ¹¦»çÇÒ ¼ö ÀÖ°Ô ÇØÁشٴ Á¡¿¡¼­ »çÁøÀÇ Çʸ§°ú À¯»çÇÑ ¿ªÇÒÀ» ¼öÇàÇÑ´Ù°í ÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù.
»êÈ­(Oxidation)°øÁ¤
800~1200¡ÉÀÇ °í¿Â¿¡¼­ »ê¼Ò³ª ¼öÁõ±â¸¦ ½Ç¸®ÄÜ ¿þÀÌÆÛÇ¥¸é°ú È­ÇйÝÀÀ ½ÃÄÑ ¾ã°í ±ÕÀÏÇÑ ½Ç¸®ÄÜ »êÈ­ ¸·(SiO2)À» Çü¼ºÇÑ´Ù. »êÈ­ ¸·Àº ¿þÀÌÆÛ À§¿¡ ±×·ÁÁú ¹è¼±³¢¸® ÇÕ¼±µÇÁö ¾Êµµ·Ï ¼­·Î¸¦ ±¸ºÐÇØ ÁØ´Ù. ¹è¼±°£ÀÇ °£°ÝÀÌ ¹Ì¼¼Çϱ⠶§¹®¿¡ ÇÕ¼±ÀÌ µÉ °æ¿ì°¡ ¸¹´Ù.
°¨±¤¾× µµÆ÷(Photo Resist Coating)
PR CoatingÀ̶õ ºÐ»çµÈ ¾×»ó °¨±¤¾×À» ³ôÀº ȸÀü¼ö·Î ȸÀü½ÃÄÑ ±ÕÀÏÇÑ ¾ãÀº ¸·ÀÇ ÇüÅ·Π±âÆÇ Àüü¸¦ µµÆ÷½ÃŲ ÈÄ ÀÏÁ¤¿Âµµ¿¡¼­ BakingÇÏ¿© ´Ü´ÜÇÏ°Ô ¸¸µå´Â °úÁ¤À» ¸»ÇÑ´Ù. ¿©±â¼­ÀÇ PRÀ̶õ ƯÁ¤ ÆÄÀå´ëÀÇ ºûÀ» ¹ÞÀ¸¸é(³ë±¤: Photo Exposure) ¹ÝÀÀÀ» ÇÏ´Â ÀÏÁ¾ÀÇ °¨±¤ °íºÐÀÚ È­ÇÕ¹°(Photosensitive Polymer)ÀÌ´Ù. À̶§ ¹ÝÀÀÀ̶ó ÇÔÀº PRÀÇ ÀÏÁ¤ ºÎºÐÀÌ ³ë±¤ µÇ¾úÀ» ¶§ ³ë±¤µÈ ºÎºÐÀÇ Polymer »ç½½ÀÌ ²÷¾îÁö°Å³ª ȤÀº ´õ °­ÇÏ°Ô °áÇÕÇÏ´Â °ÍÀ» ÀǹÌÇÑ´Ù. ÀϹÝÀûÀ¸·Î ³ë±¤µÈ ºÎºÐÀÇ Polymer °áÇջ罽ÀÌ ²÷¾îÁö´Â PRÀ» Positive PRÀ̶ó ÇÏ¸ç ±× ¹Ý´ëÀÇ °æ¿ì¸¦ Negative PRÀ̶ó ÇÑ´Ù. ¶ÇÇÑ ±× ÇüÅ¿¡ À־ ¾×»ó(Liquid) PR°ú Film TypeÀ¸·Î ±¸ºÐÇÑ´Ù.
³ë±¤(Exposure)°øÁ¤
³ë±¤±â(Stepper)¸¦ »ç¿ëÇÏ¿© ¸¶½ºÅ©¿¡ ±×·ÁÁø ȸ·ÎÆÐÅÏ¿¡ ºûÀ» Åë°ú½ÃÄÑ °¨±¤¸·ÀÌ Çü¼ºµÈ ¿þÀÌÆÛ À§¿¡ ȸ·ÎÆÐÅÏÀ» »çÁø Âï´Â °úÁ¤À» ¸»ÇÑ´Ù. ³ë±¤À̶õ Photo Mask¸¦ ÅëÇØ Àڿܼ± ¿µ¿ªÀÇ ºûÀ» Á¶»çÇÔÀ¸·Î¼­ Mask»ó¿¡ Çü¼ºµÈ ¹Ì¼¼È¸·Î Çü»ó(Pattern)À» CoatingµÈ PR¿¡ Àü»çÇÏ´Â °úÁ¤À» ¸»ÇÑ´Ù. MaskÀÇ PatternÀº ¾ãÀº Cr ¸·À¸·Î Çü¼ºµÇ¾î ÀÖÀ¸¸ç Cr Pattern À§¿¡ Á¶»çµÈ ºûÀº ¹Ý»çµÇ¾î PRÀ» °¨±¤½ÃÅ°Áö ¸øÇϸç CrÀÌ ¾ø´Â ºÎºÐÀº Åõ°úÇÏ¿© PRÀ» °¨±¤½ÃÅ´À¸·Î½á CoatingµÈ PR¿¡ ¹Ì¼¼È¸·Î Çü»óÀ» Àü»ç½ÃŲ´Ù. PRÀÇ Á¾·ù¿¡ µû¶ó Mask ¶ÇÇÑ Negative ȤÀº Positive·Î ºÐ·ùµÇ¸ç Positive PR¿¡ Positive Mask¸¦ »ç¿ëÇϰųª Negative PR¿¡ Negative Mask¸¦ »ç¿ëÇϸé PR¿¡´Â ¿ø»ó(Original Image)ÀÌ, ±× ¿ÜÀÇ °æ¿ì¿¡´Â ¿ª»ó(Reverse Image)ÀÌ Çü¼ºµÈ´Ù. ³ë±¤°úÁ¤¿¡´Â Mask Aligner¶ó°í ÇÏ´Â ³ë±¤Àåºñ°¡ »ç¿ëµÇ´Âµ¥, Aligner¶ó°í ºÎ¸£´Â ÀÌÀ¯´Â ¹Ì¼¼È¸·Î Çü»óÀÇ À§Ä¡¸¦ Á¤¹ÐÇÏ°Ô Á¦¾îÇÏ´Â °ÍÀÌ Áß¿äÇϱ⠶§¹®ÀÌ´Ù
Çö»ó(Development)°øÁ¤
¿þÀÌÆÛ Ç¥¸é¿¡¼­ ºûÀ» ¹ÞÀº ºÎºÐÀÇ ¸·À» Çö»ó½ÃŲ´Ù.